最近，英国南安普敦大学宣布成功开设了一个剪裁电子光刻（EBL）中心。它是日本以外的第一个世界中心，分辨率不到5纳米，也是第一个像欧洲的电子束光刻中心一样。该中心可以产生下一个代代的半导体芯片。根据南安普敦大学的说法，电子束光刻中心直接使用了日本Jeol Company的电子束光刻系统的加速电压。这是世界上第二个200kV系统（JEOL JBX-8100 G3），第一个是在日本。该系统允许在200mm晶片下的5纳米尺度以下的精细结构处理，适合于10微米厚的光孔，几乎具有垂直的侧壁，有助于在电子场和光子学中生产芯片的新结构。其他100kV EBL JEOL（JBX-A9）设备将用于支撑30的较大批次0mm晶圆。目前，直接写入电子光谱系统（JEOL JBX-8100 G3）的加速JEOL电压已安装在南安普敦大学蒙巴顿大楼的特别建造的820平方米干净的房间中。英国科学部长帕特里克·瓦兰斯（Lord Patrick Valans）说：“英国是世界上一些最渴望的半导体研究的家园，而新的南安普敦电子设施极大地增强了我们的国家能力。南安普敦大学教授说：“我们很荣幸成为第一家机构200 kV电子束Lithersich sapercaphy。这将有助于计算量的开发，即电子电子电子的起义设备。并为电子，光子学和Bionanotechnology创建各种纳米级集成设备。 “格雷厄姆·里德（Graham Reed英国学术界的清洁。它促进了大量与工业研究相关的创新以及必要的半导体实践培训。 “